uv光催化氧化設備采用我國上較技術理念，通過技術人員長期的試驗研制出的，具有自主知識產權的環保凈化產品可分解工業廢氣中物質，并能達到脫臭、凈化效果，經分解后的工業廢氣，可達到化排放，不產生二次污染，同時達到病菌的作用。

uv光催化氧化設備采用納米紫外線破壞、分解大分子鏈為小分子鏈，再利用臭氧和羥基自由基氧化、催化劑進行催化氧化，使物變為水和二氧化碳，以達到去除物的目的。

uv光催化氧化設備工作原理

半導體光催化劑大多是n型半導體材料（當前以TiO2使用廣泛）都具有區別于金屬或絕緣物質的特別的能帶結構,即在一個價帶和導帶之間存在一個禁帶。

由于半導體的光吸收閾值與帶隙具有式K=1240/Eg(eV)的關系,因此常用的寬帶隙半導體的吸收波長閾值大都在紫外區域。當光子能量高于半導體吸收閾值的光照射半導體時,半導體的價帶電子發生帶間躍遷,即從價帶躍遷到導帶,從而產生光生電子(e-)和空穴(h+)。此時吸附在納米顆粒表面的溶解氧俘獲電子形成超氧負離子,而空穴將吸附在催化劑表面的氫氧根離子和水氧化成氫氧自由基。而超氧負離子和氫氧自由基具有的氧化性,能將絕大多數的物氧化至產物CO2和H2O,甚至對一些無機物也能   分解。

uv光催化氧化設備性能優勢

1、除惡臭：能去除揮發性物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效果超過我國1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標準》(GB16297-1996)。

2、無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使惡臭/工業廢氣通過本設備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應。

3、適應性強：GY-系列惡臭氣體（工業廢氣）UV光解廢氣凈化設備可適應，大氣量，不同工業廢氣物質的脫臭、凈化處理，可每天24小時連續工作，運行穩定。

4、運行成本低：GY-系列惡臭氣體（工業廢氣）UV光解廢氣凈化設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，設備風阻＜50pa,可節約大量排風動力能耗。

5、設備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等條件，設備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風量。

6、   材料制造：、蝕，設備性能   穩定，采用不銹鋼材質，設備使用壽命在十五年以上。

7、認證產品：設備具有   、特性，已通過我國電器產質量監督檢驗中心的Ex合格認證（證書編號：CNEx13.0792X），能廣泛應用于采油(氣)田、石油化工、制藥等要求高的行業。

uv光催化氧化設備技術參數

uv光催化氧化設備應用

涂料廢氣處理，噴漆廢氣處理，飼料行業廢氣處理，油墨生產廢氣處理，注塑廢氣處理，吹膜廢氣處理，塑料造粒廢氣處理，家具廠廢氣處理，化工廢氣處理，制藥廠廢氣處理，食品加工廢氣處理，香精香料廢氣處理，印刷廢氣處理。

uv光催化氧化設備案例

項目：陜西印刷有限公司廢氣治理工程

主要成分：油墨及烤箱內散發的高溫廢氣；

處理風量：10000m3/h；

設備配置：GY-TQ10000型UVuv光催化氧化設備一臺；

處理標準：執行《惡臭污染物排放標準》(GB14554-93)二級標準及陜西省地方標準《大氣污染物排放限值》（DB4427-2001）的二級排放標準。